销售电话

17717978219

技术电话

4006704588

当前位置:首页  >  新闻中心  >  关于金相抛光机的技术要求看完这些你就知道了

关于金相抛光机的技术要求看完这些你就知道了

更新时间:2020-11-04      点击次数:1128
  对金相抛光机的技术要求你知道么?下面就让我们一起来了解一下吧。
 
  金相抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织,即不会造成假组织。
 
  这两个要求是矛盾的。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。
 
  解决这个矛盾的好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。首先是粗抛,目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到小。
 
  抛光时,试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。
 
  湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生"曳尾"现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至出现黑斑,轻合金则会抛伤表面。
 
  为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,好不要超过500r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。
 
  精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。
 
  金相试样抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步引起有关专家的重视。近年来,国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。下面介绍几种常用的机械抛光机的性能和特点。
上海皆准仪器设备有限公司
  • 联系人:冯经理
  • 地址:上海市嘉定区博园路5205号A栋3楼
  • 邮箱:jz0007@163.com
  • 传真:021-69003627-816
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有©2024上海皆准仪器设备有限公司All Rights Reserved    备案号:沪ICP备12012879号-6    sitemap.xml    总访问量:606743
管理登陆    技术支持:化工仪器网